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产品中心
氢气炉
  
设备用途:
    该设备主要是用于半导体材料、纳米材料、光线材料等在氢气保护下的各种复杂工艺,具有多种工艺气体的流量控制。是科研、教学、生产、新材料研发的重要设备。
设备简介:
◆用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。
◆ 采用进口压力控制系统,闭环控制,稳定性高。
◆ 采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门,确保气路气密性。
◆ 具有完善的报警功能及安全互锁装置。
◆ 具有良好的人机界面,灵活的工艺性能。
主要技术参数:
◆控制精度:±1℃   
◆炉温均匀度:±1℃(根据加热室大小而定) 。
◆微电脑控制,操作方便,可编程,自动升温、自动保温、自动降温。
◆炉管采用刚玉99陶瓷。
◆不锈钢金属法兰密封(双胶圈)
◆炉体温度接近室温
◆双回路保护
◆进口耐火材料,保温性能好,耐温高
◆最大真空度 -0.1Mpa
◆可通多种气体(氧气、氮气、氩气、氢气等)
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