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真空烧结炉
查看次数:115   更新时间:2019/1/10 10:45:48
一、设备用途
用于玻璃基片在H2S气氛里硫化等各种工艺。

二、产品简介
结构为卧式,石英管腔体保证腔体清洁,前端可通入多种气体,后端由真空泵获得真空,并通过调节阀门来调节腔体内真空度。
◆用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。
◆采用进口压力控制系统,闭环控制,稳定性高。
◆采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门,确保气路气密性。
◆具有完善的报警功能及安全互锁装置。
◆具有良好的人机界面,灵活的工艺性能。

三、主要技术参数
◆结构:     单管卧式、双管
◆工作温度:   300~1200℃
◆真空度:   2Pa、10(-5)Pa
◆真空室直径:Φ90~400mm
◆恒温区长度:400~1000 mm
◆控制精度: ±1.0℃
◆加热功率:   5~55 KVA
◆控制系统:   进口仪表+PLC+触摸屏
◆安全连锁保护:超温、断偶、缺水、压力异常保护报警


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